这套加工手法与超级福岗的光感器加工工艺差不多。
而2纳米以后的超级浸润式设备与5纳米的不一样，5纳米是采用NA=0.33的曝光设备。
2纳米需要高解析度的曝光设备，更高的NA化，即NA=0.55（NA是数值孔径，与最大的临界角度有关）。
张冲志又利用一晚上的时间生产了十二套2纳米反射镜片，不过合格的只有七套，废了五套，对于一般人来说，可能合格率达不到百分之一。
NA=0.55的曝光设备，兰斯麦已有设计，不过技术要求太高，需要几年后才能生产出来，张冲志只是将它优化了一下，直接拿来用了，还美其名曰先用先得。
第二天，张冲志就先拿了两套报废的镜片，让攻关小组进行镀钼硅膜实验，测试能够达到的效果。
这种膜经过改良后，真将光能的吸吸率降低了10%，让攻关小组一阵欢腾，因为这可是与奖金挂勾的。
小主，这个章节后面还有哦，请点击下一页继续阅读，后面更精彩！利用两天时间将15套5纳米镜片镀好膜，又用一天时间将7套2纳米光刻机用镜片也镀好膜，就开始了超浸润设备的全机体制造。
张冲志边制作边指导说解，这些人是他培养的高端光刻机装配人员，为以后大批量生产高端光刻机做准备，当然好让自己偷懒！
他自己动手装配了一套5纳米光刻机，一套2纳米光刻机，第三套就交给工作人员装配去了，他在旁边指导。
只要镜片不毁，其它各种角度的微调让装配人员去摸索吧！
时间又过去了三天，8月14日，张冲志带领光刻机工作团队进行最后的安装调试，所有设备都检查了一遍，各部门都报告没有问题。
张冲志让人打开电源，一盏盏指示灯亮起，主控计算机开始检索，计算机装载鸿盛天机自动控制系统，所有页面都是玄语，让人一看就明白，当然是学玄语的人。
计算机检测完成，发出了让所有人都高兴的“滴”的一声，真是声音清晰响亮，是天籁之音。
接下来就是进行一项项测试；双工作台、测量台、曝光台等运转正常，极紫外激光器发光正常，超浸润系统工作正常。
光束矫正器工作正常，光束形状设置正常，掩膜台工作正常，物镜工作正常……
13个分项，数万个零件，重达五百吨的工业明珠运行正常！
接着开始整体空载运行，正常后开始正式加工，也叫载物运行。
就见一张18英寸，直径450mm的单晶硅硅圆被放在了双工作台上，接着开始硅片表面清洗、烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序，这个过程需经过多次。
一张越复杂的芯片，它的线路层数越多，越需要精密复杂，越繁锁的曝光控制过程。
当一张450毫米直径的晶圆上布满了密密规则的芯片，终于出现在众人的手上时，许多人都喜极而泣。
张冲志的眼中也贮满泪花，终于，终于，夏盛麒麟公司生产出了高精度的超浸润光刻机，轩辕无高端“芯片”的历史一去不复返了！
尹总和余向东，王守柱、王媛四人带着两张密布芯片的硅圆芯盘，直奔京都而去。
张冲志坚决不去，太麻烦了！
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