“我们选择中间的接近式曝光，因为DUV光刻机没有必要用最好的，这样大大提高了难度和成本，以及功能富足。”
关于接触式的曝光其实非常复杂的，不过总体上可以分为三种，一种是真空接触，一种是硬接触，一种是软接触。
虽然名字不一样，但是后面两个字是不会错的，那都是接触。
因为掩模和硅晶圆片相互接触了，那么他们之间肯定会相互摩擦，这样不仅对硅晶圆片上面的光刻胶产生影响，而且还会影响掩模的精密度，影响掩模上面的线路图。
因为掩膜版，它是需要重复使用的，但这样每一次使用都和硅晶圆片相互接触，那么久而久之模版就会伤害上面的线路。线路图就会越来越模糊，甚至出现缺陷，也就使的掩模的破损率大大增加。
在使用一段时间之后，掩膜版就不能使用了。
这样接触式曝光就有一个严重的缺点，这样的缺点导致接触式曝光渐渐被淘汰了。
说出来很可惜，我们国家现在生产出来的光刻机，基本上都是接触式曝光，因为接触式曝光的技术和制造都相对来说简单，制造起来相对来说比较容易。
但是外国呢，基本上都把接触时把光给淘汰了。
至于投影式曝光，一般都是更高级的EUV光刻机上才能使用的。
对于的DUV光刻机，没有必要使用投影式曝光，我们现在使用的仅仅是接近式曝光，硅晶圆片和掩模版彼此之间的距离非常小，这一段距离大约保持的260um之下，以我们的肉眼是看不见的，必须用高倍的放大镜才可以看见。
投影式曝光非常的复杂，只不过基本上分为三种：扫描步进投影曝光。不仅重复投影曝光。扫描投影曝光。
毫无疑问，这三种方法，对于技术和制造能力来说，都要求非常非常高，几乎到了变态的程度。
“就算是我想要制造出来EUV光刻机，那也需要花费很长的时间，更别说别人了。”
ASML生产出来的高级光刻机就是用的投影式曝光，它们的产量也不高，一年也就能生产出来30部EUV光刻机。
可以说制造出来光刻机是一件非常不容易的事情，我们甚至可以说光刻机是这个世界上最精密的设备，最起码在现在这个阶段，光刻机是最精密的仪器。
制造光刻机的在很大程度上都能反映出一个国家的工业水平到底处于什么阶段。
一个光刻机他上边的零部件超过10万个，线路有3000条，螺栓4万个，软管长度超过两公里，此外，还有190多个传感器，包含16个分系统。
那么多零补角组合在一起，形成了一个光刻机。设备上的所有零部件之间相互配合，不能出现一个问题。
如果一个小零件出现问题，就能导致整个机器不能正常运转，就连一个小螺栓都不能出现问题。
可以毫不夸张的说，牵一发而动全身。
千万不要小看一个螺栓，它可能就能影响整个机器的运行，可以说只要安装在光刻机上边的零部件那就是重要零部件。
“对了，ASML公司1年能生产接近生产30台，要是我们马力开，全开一年能生产出来多少台光刻机？”张星辰问道。
对于这个问题张星辰还是很好奇的。
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